RA0.2 99% アルミナセラミックプレート

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RA0.2 99% アルミナセラミックプレート

Ra 0.2μmの表面仕上げを備えた精密グレードのアルミナセラミックプレート
この高純度アルミナセラミックプレート(Al₂O₃ ≥99%)は、卓越した表面平滑性を特徴とし、Ra 0.2μmの表面粗さを実現しており、精密部品に対する厳格な工業要件を満たしています。.
主な特性:

  • 超滑らかな表面: 鏡面のような仕上がりにより摩擦と粒子の付着を最小限に抑え、半導体のハンドリングや医療機器に最適です。
  • 機械的特性: ビッカース硬さ 15–18 GPa、曲げ強度 300–400 MPa
  • 熱安定性: 使用温度範囲 -200°C から 1600°C、CTE 7.2×10⁻⁶/°C
  • 電気絶縁性: 体積抵抗率:25℃で10¹⁴ Ω·cm以上

典型的な用途:
• 真空チャンバーのライナー • レーザー反射板の基板 • 高摩耗耐性ベアリング表面 • MEMS製造ステージ

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